抛光垫又称抛光皮,抛光布,抛光片,化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫; 按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫; 按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。
抛光垫的作用:
①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;
②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出,达到去除效果;
③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行;
④保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌。
抛光垫的影响因素:
①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力;
②压缩比-压缩比反应抛光垫的抗变形能力;
③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量;
④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度,;
⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度。
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